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露光技術の歴史

発行：エスオーエル株式会社
https://www.sol-j.co.jp/

連載「知って得する干渉計測定技術！」
2013年6月30日号　VOL.071

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干渉計による精密測定やアプリケーション開発情報などをテーマに、
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 皆様こんにちは。

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今月は【露光】についてです。

今月は露光の歴史を簡単ではありますが追っていきましょう☆★☆

まずは、『コンタクト露光』
コンタクト露光とはマスクとウェーハを密着させて露光することです。

一括露光なので処理能力がとても早いというメリットがあります。
しかし、
・高解像度が得られにくい　
・マスクの消耗が激しい
・ウェーハにもダメージが残ってしまったり、ゴミの影響を受ける
といったデメリットがあります。

そんなコンタクト露光のデメリットを克服するため『プロキシミティ露光』が
生まれました！プロキシミティ露光はマスクとウェーハの間に約10um程の
隙間を空け露光します。

一括露光で処理能力が高く、マスクもウェーハもダメージが少ないという
メリットがありますが、隙間を空けたため、高解像度が下がり、ウェーハの
大口径化に対応が難しいといったデメリットがあります。

これまたプロキシミティ露光のデメリットを克服するため
『ミラープロジェクション露光』が誕生しました。
ミラープロジェクション露光は、マスクとウェーハの間に凹面鏡と凸面鏡の
光学系をはさみ、マスクとウェーハの距離を離し、マスクとウェーハを同期
させて動かしてウェーハの一括走査露光を行う露光方式です。
大口径化や処理能力はアップしましたが、結像性能の良い位置が限られるため、
高解像度が得られにくです。

またまたミラープロジェクション露光のデメリットを克服するため、
マスク製作に使用していたステップ・アンド・リピート技術をウェーハ露光に
応用することになり『ステッパー』が生まれました。

マスクの原板であるレチクルを使用し、レチクル像をレンズによって
ウェーハ上に縮小投影露光します。分割露光にすることでウェーハ
全体ではなく、1 回分の露光領域だけ平面度を気にすればよくなるので、
焦点深度に対する制約はゆるくなりました。
高解像度も得られ、ゴミがついても影響を受けずらく、大口径化にも
対応できます。ただ、一括露光とは違って処理能力は落ちてしまいますが…

上記のように、その露光方式でも、一長一短があることがわかります。

ステッパーという名前だけしか分からない自分が恥ずかしいです(>o<)///
もっと勉強しなくてはです！！

これだけ色々考えて、露光装置を現物にしてきた設計の方々・技術の方々は
本当に素晴らしいと感じます。自分が今使っているパソコンや携帯電話や
車にも半導体が使用されていて、こんなにもさくさくと機器が使えるように
なっているのは、感動モノです。

 最後まで見てくださった方々、ありがとうございます！
 今後も、初心者（自分か？）向けメルマガを配信します♪
 楽しみにし下さいね☆★
 次回のメールマガジンでお会いしましょう！


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F.N