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FlatMaster-Wafer

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製品情報 Product Information

FlatMaster-Wafer ウェーハ用平面度測定機(手動機)

FlatMaster-Wafer

対応サイズ:2”~8”

測定項目:

吸着測定:TTV, LTV など

非吸着測定:SORI, BOW, WARP など

ストレス解析、表面うねりなど

対象ウェーハ:
Si, サファイア, SiC, GaN, 酸化ガリウム, LT, LN,
GaAs, InP, 水晶, ガラス, セラミック など

保持方法:基板垂直保持

特徴

測定時間約30秒!全面一括高速測定

測定時間約30秒!
全面一括高速測定

最大25万点のデータを、サンプルセットから解析まで約30秒で測定。

精度0.1μm以下! NISTトレーサブル

精度0.1μm以下!
NISTトレーサブル

繰返し精度(Repeatability)だけでなく、校正原器に対する精度(Accuracy)も保証。
NIST規格に準拠した校正原器も標準で付属。

実績No.1のロングセラーモデル

実績No.1の
ロングセラーモデル

最も歴史が長く実績も豊富な、トロベル社の定番モデル。20年以上前からお使いのお客様も珍しくなく、操作性や耐久性の麺でもご評価頂いています。

仕様

機種名 FlatMaster100 FlatMaster200
測定原理 斜入射干渉計
ウェーハサイズ 2"~4" 2"~8"
Zoom追従範囲
(横分解能)
20~100mm
(80~240μm/pixel)
40~200mm
(96~457μm/pixel)
測定波長 635nm 半導体レーザー
縞感度 1.8~8μm/fringeの中で1つご指定
XR、XRAオプション
(縞感度可変オプション)
XRは4~8μm/fringeの中で3段階可変
XRAは1.8~8μm/fringeの中で3段階可変
測定データ数 最大約25万点
測定分解能 0.01μm
測定精度(Accuracy) 0.10μm以下
繰返し精度(Repeatability) 0.025μm(1σ)以下
測定時間 サンプルセットから解析まで30秒以下

お問い合わせ Contact

048-441-1133

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