当社は埼玉県に本社をおく、測定機の "エスオーエル株式会社" です。 同名あるいは類似の企業名にご注意下さい。

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【 記 事 】

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ウェーハの反りと保持方法 続編その2 
 
発行:エスオーエル株式会社 
http://www.sol-j.co.jp/ 
 
連載「知って得する干渉計測定技術!」 
2015年11月24日号 VOL.100 
 
平素は格別のお引き立てを賜り、厚く御礼申し上げます。 
干渉計による精密測定やアプリケーション開発情報などをテーマに、 
無料にてメールマガジンを配信いたしております。 
  
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こんにちは。 
 
 
あっという間の一ヶ月。いつの間にか11月末ですね。 
気が付けば12月がもう間近。皆様如何お過ごしでしょうか? 
 
年末が近づくにつれ、色々準備をしなければならない季節です。 
家の大掃除だとか、クリスマスがどうのとか、 
年末年始の里帰りをどうするか、等々。 
我が家でもそんな話題が聞こえてきます。 
 
年末年始と言えば、忘年会と新年会。お酒を飲む機会が多くなりますね。 
普段からそこそこお酒を飲む私にとっては、嬉しいイベントですね。 
1年間頑張った自分と、支えて下さった周りの人々に 
感謝を表明する季節でもあります。 
 
 
さて、本題に入ります。 
今回もウェーハの反り測定における保持の違いについてです。 
この話題も今回で最後にしようかと思います。 
 
前回のメルマガでは、水平保持と垂直保持とでは 
自重による変形量に差が生じるという事、 
どちらが良いかは測定の目的、エンドユーザーの意向次第という事を述べました。 
 
水平保持と垂直保持、一般的なのは水平保持です!! 
と前回高らかに宣言してしまった私。 
色々反響がありまして、必ずしもそうではないという事を 
今回は解説せねばなりません。 
ご意見下さった皆様、誠にありがとうございました。 
 
垂直保持も水平保持も、それぞれ目的に応じて使い分けられています。 
垂直保持の良さとは、ウェーハ自重によるたわみを 
考慮する事なく測定出来るという点です。 
ウェーハの裏面1点、もしくは外周3点を吸着して垂直保持で測定するという事は、 
ウェーハを保持する際の支点が常に一定だと考えられますので、 
"反りデータ"に対する解釈、扱いがグンと楽になります。 
 
プロセスにおける反りの変化量等を見たいというお客様にとって、 
ウェーハ保持時の支点の位置で反り量や形状が変わってしまうと厄介です。 
水平保持だとどうしてもそういう要素を含んだ測定になるので、 
プロセスによるウェーハへのストレス解析や反りの変化量を解析する場合は 
"垂直保持有利"になるのです。 
 
 
但し、ウェーハの品質管理という観点から反り測定について考える場合、 
垂直保持である必要があるか否かという視点を持たなければなりません。 
そもそもなぜ反りを測定する必要があるのか、反り測定の歴史について解説させて下さい。 
 
干渉計を使ったウェーハの平面度測定は、 
元々はステッパーにおけるデフォーカスシミュレーションに端を発しています。 
つまり、露光工程ではウェーハの裏面を全面吸着してしまうので、 
わざわざ反りを測定する必要性は無かったのです。 
 
しかし、露光をする以前にウェーハ形状が問題となって生産が止まってしまう事がありました。 
反りが大き過ぎる事による搬送エラーです。 
露光機に運ぶ前の搬送段階で吸着不良が起こってしまい、 
装置が止まってしまったんですね。そこから反り測定の必要性が出てきました。 
 
この場合の反り測定は、TTV測定に比べればアバウトです。搬送が出来ればよいのですから、 
反りの数値があればよい。保持の方法なんて気にしない、 
もしくは搬送時のウェーハは水平なので 
水平の方がより実際に近くていいんじゃない?!くらいの認識です。 
 
でもその当時、水平保持でウェーハの反りを測定する干渉計が世の中に存在せず、 
TTV測定の様にわざわざ反り用のチャックを使って測定するようになってしまった・・・ 
そして今日に至るという訳です。 
 
最近になり漸く、"こんな無駄な事はやめようよ"という考えが装置に反映され、 
更に化合物半導体を中心とした最新の半導体技術では薄いウェーハを使用するという背景も手伝って、 
水平保持が色々な現場で使われ始めました。まだまだ言い切るには時期尚早ですが、 
水平保持でのウェーハ反り測定が今後一般的になってくるのではないでしょうか。 
 
個人的な意見が入っておりますので、参考程度に読んで頂ければ幸いです。 
長くなりましたが、最後までご高覧下さりありがとうございました。 


--
MS.N


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